MoCu اسپٹرنگ ٹارگٹ ہائی پیوریٹی پتلی فلم Pvd کوٹنگ اپنی مرضی کے مطابق بنایا گیا ہے۔
مولیبڈینم کاپر
Molybdenum Copper sputtering ہدف کو infiltration sintering کے ذریعے گھڑا جاتا ہے: Molybdenum پاؤڈر کو sintered اور نیم تیار شدہ مصنوعات میں تشکیل دیا جاتا ہے، جو بعد میں مائکروویو کی مدد سے پانی کے حل کی حکمت عملی کے ساتھ مل جاتا ہے۔مولبڈینم کاپر الائے شاندار جسمانی اور مکینیکل خصوصیات رکھتا ہے: تسلی بخش برقی اور تھرمل چالکتا، تھرمل توسیع کا کم اور ایڈجسٹ قابل گتانک، لباس مزاحمت، اور اعلی درجہ حرارت کی طاقت۔
| کمپوزیشنز (%) | Cu | Mo | ناپاکی (%) |
| MoCu10 | 10±2 | بقیہ | ≤0.1 |
| MoCu15 | 15±3 | بقیہ | ≤0.1 |
| MoCu20 | 20±3 | بقیہ | ≤0.1 |
| MoCu25 | 25±3 | بقیہ | ≤0.1 |
| MoCu40 | 40±5 | بقیہ | ≤0.1 |
رچ اسپیشل میٹریلز سپٹرنگ ٹارگٹ کی تیاری میں مہارت رکھتا ہے اور گاہکوں کی وضاحتوں کے مطابق مولیبڈینم کاپر سپٹرنگ میٹریل تیار کر سکتا ہے۔مزید معلومات کے لیے، براہ کرم ہم سے رابطہ کریں۔
