آج کل، ایمموبائل فون عوام کے لیے سب سے ناگزیر چیز بن چکے ہیں، اور موبائل فون کے ڈسپلے زیادہ سے زیادہ اعلیٰ ہوتے جا رہے ہیں۔جامع سکرین ڈیزائن اور چھوٹے بینگ ڈیزائن موبائل فون LCD بنانے میں ایک اہم قدم ہیں۔کیا آپ جانتے ہیں کہ یہ کیا ہے— کوٹنگ: مولیبڈینم ٹارگٹ سے لیکویڈ کرسٹل گلاس تک دھاتی مولبڈینم کو پھٹنے کے لیے میگنیٹران سپٹرنگ ٹیکنالوجی کا استعمال کریں۔یہاں بیelowاس مضمون آپ کو ایک مخصوص تعارف دے گا.
پتلی فلم کے ڈیٹا کو تیار کرنے کے لیے ایک جدید تکنیک کے طور پر سپٹرنگ میں "تیز رفتار" اور "کم درجہ حرارت" کی دو خصوصیات ہیں۔یہ آئن ماخذ کے ذریعہ تیار کردہ آئنوں کو خلا میں تیز رفتار آئن کے بہاؤ کے جمع اور انضمام کو تیز کرنے کے لئے استعمال کرتا ہے، ٹھوس سطح پر بمباری کرتا ہے، اور آئنز ٹھوس سطح پر موجود ایٹموں کے ساتھ حرکی توانائی کا تبادلہ کرتے ہیں، تاکہ ٹھوس پر ایٹم سطح ہدف کو چھوڑ دیں اور سبسٹریٹ کی سطح پر جمع کریں، اور پھر ایک نینو (یا مائکرون) فلم بنائیں۔شیلڈ ٹھوس پتلی فلموں کا ڈیٹا ہوتا ہے جو اسپٹرنگ کے ذریعے جمع ہوتا ہے، جسے سپٹرنگ ٹارگٹ کہا جاتا ہے۔
الیکٹرانکس کی صنعت میں، مولبڈینم سپٹرنگ اہداف بنیادی طور پر فلیٹ پینل ڈسپلے، الیکٹروڈ اور پتلی فلم سولر سیلز کے وائرنگ میٹریل، اور سیمی کنڈکٹرز کے رکاوٹ والے مواد کے لیے استعمال ہوتے ہیں۔
یہ اعلی پگھلنے والے نقطہ، اعلی چالکتا، کم مخصوص رکاوٹ، اچھی سنکنرن مزاحمت اور molybdenum کے اچھے ماحولیاتی تحفظ کے فنکشن پر مبنی ہیں.
پہلے، فلیٹ پینل ڈسپلے کا وائرنگ ڈیٹا بنیادی طور پر کرومیم تھا، لیکن فلیٹ پینل ڈسپلے کے بڑے پیمانے اور اعلیٰ درستگی کے ساتھ، مائبادا سے چھوٹے ڈیٹا کی زیادہ سے زیادہ ضرورت ہے۔اس کے علاوہ، ماحولیاتی تحفظ بھی ایک ضروری غور ہے.مولبڈینم کا یہ فائدہ ہے کہ مخصوص رکاوٹ اور فلم کا تناؤ کرومیم کے صرف 1/2 ہے، اور ماحولیاتی آلودگی کا کوئی مسئلہ نہیں ہے، اس لیے یہ فلیٹ پینل ڈسپلے کے لیے اسپٹرنگ ہدف کے مواد میں سے ایک بن گیا ہے۔
اس کے علاوہ، LCD اجزاء میں molybdenum کا استعمال LCD کی چمک، اس کے برعکس، رنگ اور سروس لائف میں بہت زیادہ بہتری لا سکتا ہے۔TFT-LCD فلیٹ پینل ڈسپلے انڈسٹری میں مولیبڈینم سپٹرنگ ٹارگٹ کی سب سے اہم ایپلی کیشنز میں سے ایک ہے۔
مارکیٹ ریسرچ سے پتہ چلتا ہے کہ اگلے چند سال LCD کی ترقی کی چوٹی ہوں گے، جس کی سالانہ شرح نمو تقریباً 30% ہوگی۔LCD کی ترقی کے ساتھ، LCD سپٹرنگ ہدف کی کھپت بھی تیزی سے بڑھ رہی ہے، جس کی سالانہ شرح نمو تقریباً 20 فیصد ہے۔
فلیٹ پینل ڈسپلے پیشے کے علاوہ، نئی توانائی کے پیشے کی ترقی کے ساتھ، پتلی فلم شمسی فوٹوولٹک خلیات میں molybdenum sputtering ہدف کی درخواست بھی بڑھ رہی ہے.
مولبڈینم سپٹرنگ ٹارگٹ بنیادی طور پر سی آئی جی ایس (کاپر انڈیم گیلیم سیلینیم) پتلی فلم بیٹری کی الیکٹروڈ پرت بنانے کے لیے پھٹا ہوا ہے۔Mo شمسی سیل کے نیچے ہے۔سولر سیل کے بیک ٹچ کے طور پر، یہ CIGS پتلی فلم کرسٹل کی نیوکلیشن، نمو اور تفصیل میں بہت اہم کردار ادا کرتا ہے۔
پوسٹ ٹائم: مئی-10-2022