سپٹر ٹارگٹ میٹریل کیا ہے۔

میگنیٹرون اسپٹرنگ کوٹنگ ایک نیا فزیکل وانپر کوٹنگ کا طریقہ ہے، اس کے مقابلے میں بخارات کی کوٹنگ کے پہلے کے طریقہ کار کے مقابلے، بہت سے پہلوؤں میں اس کے فوائد کافی قابل ذکر ہیں۔ایک پختہ ٹیکنالوجی کے طور پر، بہت سے شعبوں میں میگنیٹران سپٹرنگ کا اطلاق کیا گیا ہے۔

　　میگنیٹران سپٹرنگ اصول:

ایک آرتھوگونل مقناطیسی میدان اور برقی فیلڈ کو پھٹے ہوئے ہدف کے قطب (کیتھوڈ) اور اینوڈ کے درمیان شامل کیا جاتا ہے، اور مطلوبہ انارٹ گیس (عام طور پر آر گیس) ہائی ویکیوم چیمبر میں بھری جاتی ہے۔مستقل مقناطیس ٹارگٹ میٹریل کی سطح پر 250-350 گاؤس میگنیٹک فیلڈ بناتا ہے، اور آرتھوگونل برقی مقناطیسی فیلڈ ہائی وولٹیج الیکٹرک فیلڈ کے ساتھ بنا ہوا ہے۔الیکٹرک فیلڈ کے اثر کے تحت، آر گیس آئنائزیشن کو مثبت آئنوں اور الیکٹرانوں میں نشانہ بنایا جاتا ہے اور کچھ منفی دباؤ ہوتا ہے، مقناطیسی فیلڈ کے اثر سے قطب سے ہدف سے اور کام کرنے والی گیس کے آئنائزیشن کے امکانات میں اضافہ، ایک اعلی کثافت پلازما بنتا ہے۔ کیتھوڈ، لورینٹز فورس کے عمل کے تحت آر آئن، ہدف کی سطح پر اڑنے کی رفتار بڑھاتے ہیں، ہدف کی سطح پر تیز رفتاری سے بمباری کرتے ہیں، ہدف پر پھٹے ہوئے ایٹم رفتار کی تبدیلی کے اصول کی پیروی کرتے ہیں اور بلند حرکیات کے ساتھ ہدف کی سطح سے اڑ جاتے ہیں۔ سبسٹریٹ جمع کرنے والی فلم کو توانائی۔

میگنیٹران سپٹرنگ کو عام طور پر دو قسموں میں تقسیم کیا جاتا ہے: ڈی سی سپٹرنگ اور آر ایف سپٹرنگ۔ڈی سی سپٹرنگ آلات کا اصول آسان ہے، اور دھات کو پھوڑنے پر شرح تیز ہوتی ہے۔آر ایف سپٹرنگ کا استعمال زیادہ وسیع ہے، اس کے علاوہ کوندکٹو مواد کو پھوڑنے کے علاوہ، غیر موصل مواد کو بھی پھوٹا جاتا ہے، بلکہ آکسائیڈز، نائٹرائڈز اور کاربائیڈز اور دیگر مرکب مواد کی ری ایکٹیو سپٹرنگ تیاری بھی۔اگر آر ایف کی فریکوئنسی بڑھ جاتی ہے تو یہ مائکروویو پلازما سپٹرنگ بن جاتا ہے۔اس وقت، الیکٹران سائکلوٹرون ریزوننس (ECR) قسم کا مائکروویو پلازما سپٹرنگ عام طور پر استعمال ہوتا ہے۔

　　Magnetron sputtering کوٹنگ ہدف مواد:

میٹل سپٹرنگ ٹارگٹ میٹریل، کوٹنگ الائے سپٹرنگ کوٹنگ میٹریل، سیرامک ​​سپٹرنگ کوٹنگ میٹریل، بورائیڈ سیرامک ​​سپٹرنگ ٹارگٹ میٹریل، کاربائیڈ سیرامک ​​سپٹرنگ ٹارگٹ میٹریل، فلورائیڈ سیرامک ​​سپٹرنگ ٹارگٹ میٹریل، نائٹرائڈ سیرامک ​​سپٹرنگ ٹارگٹ میٹریل، آکسائیڈ سیرامک ​​سپٹرنگ ٹارگٹ میٹریل، سیرامک ​​سپٹرنگ ٹارگٹ میٹریل۔ سلی سائیڈ سیرامک ​​سپٹرنگ ٹارگٹ میٹریل، سلفائیڈ سیرامک ​​سپٹرنگ ٹارگٹ میٹریل، ٹیلورائیڈ سیرامک ​​سپٹرنگ ٹارگٹ، دیگر سیرامک ​​ٹارگٹ، کرومیم ڈوپڈ سلکان آکسائیڈ سیرامک ​​ٹارگٹ (CR-SiO)، انڈیم فاسفائیڈ ٹارگٹ (InP)، لیڈ آرسنائیڈ ٹارگٹ (PbAs)، انڈیم آرسنائیڈ ہدف (InAs)۔