NiFe سپٹرنگ ٹارگٹ ہائی پیوریٹی پتلی فلم Pvd کوٹنگ اپنی مرضی کے مطابق بنائی گئی ہے۔
نکل آئرن
ویڈیو
نکل آئرن سپٹرنگ ہدف کی تفصیل
نکل آئرن سپٹرنگ ٹارگٹ ویکیوم میلٹنگ، کاسٹنگ اور پی ایم کے ذریعے تیار کیا جاتا ہے۔اس میں کم فیلڈ طاقت پر بہت زیادہ مقناطیسی پارگمیتا ہے۔
ایک نکل آئرن ٹارگٹ (نکل>30 wt%) کمرے کے درجہ حرارت پر چہرے کے مرکز کیوبک ڈھانچے کو ظاہر کرتا ہے۔روایتی طور پر نکل آئرن کے اہداف میں نکل کی 36% سے زیادہ ترکیب ہوتی ہے، اور اسے چار اقسام میں تقسیم کیا جا سکتا ہے: 35%～40% Ni-Fe、45%～50% Ni-Fe、50%～65% Ni-Fe اور 70% 81% Ni-Feہر ایک کو سرکلر، مستطیل یا ہوائی مقناطیسی ہسٹریسیس لوپس کے ساتھ مواد میں بنایا جا سکتا ہے۔
نکل آئرن (Ni-Fe) سپٹرنگ ٹارگٹس کو ایپلی کیشنز کی ایک وسیع رینج میں استعمال کیا جاتا ہے، مثال کے طور پر مقناطیسی اسٹوریج میڈیا اور EMI شیلڈنگ ڈیوائسز۔
نکل آئرن سپٹرنگ ٹارگٹ پیکیجنگ
ہمارے نکل آئرن سپٹر ٹارگٹ کو واضح طور پر ٹیگ اور بیرونی طور پر لیبل لگایا گیا ہے تاکہ موثر شناخت اور کوالٹی کنٹرول کو یقینی بنایا جا سکے۔ذخیرہ کرنے یا نقل و حمل کے دوران ہونے والے کسی بھی نقصان سے بچنے کے لیے بہت احتیاط کی جاتی ہے۔
رابطہ حاصل کریں۔
RSM کے نکل آئرن کے پھٹنے والے اہداف انتہائی اعلیٰ پاکیزگی اور یکساں ہیں۔وہ مختلف شکلوں، طہارت، سائز اور قیمتوں میں دستیاب ہیں۔ہم پاکیزگی 99.99% اور اپنی مخصوص ترکیبیں فراہم کر سکتے ہیں: Ni-Fe10at%, N-iFe16at%, Ni-Fe19at%, Ni-Fe20at%, Ni-Fe36at%, Ni-Fe50at%, Ni-Fe70at%۔
ہم مولڈ کوٹنگ، ڈیکوریشن، آٹوموبائل پارٹس، لو-ای گلاس، سیمی کنڈکٹر انٹیگریٹڈ سرکٹ، پتلی فلم میں استعمال کے لیے بہترین کارکردگی کے ساتھ اعلیٰ پاکیزگی والی پتلی فلم کوٹنگ مواد تیار کرنے میں مہارت رکھتے ہیں اور ساتھ ہی ساتھ سب سے زیادہ ممکنہ کثافت اور سب سے چھوٹے ممکنہ اوسط اناج کے سائز مزاحمت، گرافک ڈسپلے، ایرو اسپیس، مقناطیسی ریکارڈنگ، ٹچ اسکرین، پتلی فلم شمسی بیٹری اور دیگر جسمانی بخارات جمع (PVD) ایپلی کیشنز۔براہِ کرم ہمیں موجودہ قیمتوں کے بارے میں ایک انکوائری بھیجیں جو اہداف اور دیگر جمع شدہ مواد درج نہیں ہیں۔
